據韓媒報導，東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR（光刻膠）可靠性測試。消息人士稱，東進半導體在其位于京畿道華城的工廠開發了 EUV PR，并在三星電子華城 EUV生產線上對其進行了測試，并已通過可靠性測試。
PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料。它應用于晶片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發生化學反應并改變物理性質。通過用顯影劑沖洗掉 PR 來繪制微電路，只留下必要的部分。
EUV PR是2019年日本對韓國的三大限制出口半導體材料之一。韓國已量產用于氟化氪 (KrF) 和氟化氬 (ArF) 工藝的 PR，但沒有用于可以繪制更精細電路的EUV的PR。韓國使用的EUV PR大部分是從日本進口。
東進半導體在2019年日本出口限制后加速EUV PR發展。利用自有的基礎設施，如現有的氟化氬曝光機和比利時半導體研究所I MEC EUV設備，開始進行EUV PR本地化。今年早些時候，東進半導體加速了EUV PR技術開發。此外，三星電子積極支持 EUV 測試環境，以達到可以在現場使用的質量水平。業內人士表示，"要在兩年內成功開發出EUV PR是相當困難的。"
目前尚不清楚三星電子是否會立即將東進半導體 EUV PR 投入半導體生產線。正常情況下，如果質量合格就會投入量產線。為此，有人預測最早可能在明年上半年供應。
三星電子和東進半導體拒絕就 EUV PR 資格置評。三星電子的一位官員表示："我們無法與合作公司確認 Qual 是否通過。
文章來源：閃存市場https://www.chinaflashmarket.com/News/2021-12/175907
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