2024年11月13日，JX金屬株式會(huì)社的關(guān)聯(lián)公司TANIOBIS GmbH在其位于德國哥斯拉的基地引入了可進(jìn)行下一代半導(dǎo)體用CVD（化學(xué)氣相沉積）?ALD原子層沉積）前驅(qū)體材料開發(fā)與生產(chǎn)的設(shè)備，并已正式投入運(yùn)營。
隨著先進(jìn)半導(dǎo)體需求的增加，特別是對用于生成極薄膜和微細(xì)線路的高純度CVD和ALD前驅(qū)體材料的需求不斷上升。因此，TANIOBIS公司正在擴(kuò)展其高純度金屬化合物的產(chǎn)品組合，以確保滿足市場需求的穩(wěn)定供應(yīng)。該公司還計(jì)劃通過提高現(xiàn)有設(shè)備的生產(chǎn)能力來增強(qiáng)供應(yīng)能力和業(yè)務(wù)的持續(xù)性。
JX金屬集團(tuán)將半導(dǎo)體用CVD和ALD前驅(qū)體材料作為未來收益的重要支柱，并在多個(gè)地點(diǎn)進(jìn)行生產(chǎn)和開發(fā)設(shè)備的投資，以擴(kuò)展產(chǎn)品線。今年6月，JX金屬集團(tuán)決定在東邦鈦業(yè)株式會(huì)社茅崎工廠的場地以及公司日立事業(yè)所白銀地區(qū)進(jìn)行生產(chǎn)設(shè)備和開發(fā)設(shè)備的投資，此次設(shè)備增設(shè)將進(jìn)一步擴(kuò)展產(chǎn)品線。此外，我們還將利用本公司在濺射靶材業(yè)務(wù)等領(lǐng)域積累的半導(dǎo)體領(lǐng)域廣泛的知識(shí)和網(wǎng)絡(luò)，推動(dòng)集團(tuán)整體CVD?ALD前驅(qū)體材料業(yè)務(wù)的擴(kuò)展。
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