何為掩膜
- 光掩膜是一種通過PET、玻璃基板，在制造電子零件（半導體）、印刷電路板、MEMS等時使用的制圖母版。
- 它是一種使用所謂的光刻技術，實現電子部件、印刷線路板的線路圖等的復制的母版。
- 光掩膜被廣泛應用于PWB、FPC等印刷電路板、封裝電路板、液晶和觸摸屏等的顯示屏、半導體相關電子零件等領域。
光掩膜的制造特點
高精度光掩膜產品的質量保證
公司采用全間距測量設備對光掩膜產品進行全間距測量和檢測。我們以高精度提高光掩膜的質量，保證質量，提供穩定的高質量產品。
用高精度的測量設備進行測量檢查
交貨期短的生產體制
公司采用24小時制的生產體制，在盡可能短的期限內交貨。
一、薄膜掩膜
光掩膜中高性價比的基礎光掩膜。此外，因為材質是聚酯基材，又輕又軟，非常容易安裝。
主要用途
PWB、FPC、電子零件、畫報等
特征
- 性價比最高的光掩膜
- 因為材質是聚酯基材，又輕又軟，非常容易安裝。
- 數據編輯時的精細處理也沒有問題。
- 還可處理30μm左右的精細圖案。
支持數據
Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2 /ODB++
選項
支持貼層壓薄膜
標準、規格
二、乳膠玻璃掩膜
與光掩膜中使用高感光率感光乳劑，采用玻璃基膜的光繪聚酯底片相比，它的尺寸安全性更高。
主要用途
LCD、OLED、電力零件、畫報等
特征
- 與采用玻璃基膜的光繪聚酯底片相比，其尺寸安全性更高。
- 因為銀粒子細小，干涉較少，所以感光率高。
- 數據編輯時的精細處理也沒有問題。
- 使用高感光率感光乳劑，支持20μm的薄膜圖案。
※一定條件下也支持20μm以下的圖案。請向我們咨詢。
支持數據
Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※另備有高保密度的收發方法，請聯系我們。
選項
與硬涂層兼容
標準、規格
三、鉻玻璃掩膜
滿足高精度、高精細度等所有條件的高規格光掩膜。采用合成石英材料，曝光過程中溫度發生變化，尺寸也能穩定不變。最小可支持2μm圖案寬度的高精細度光掩膜。
主要用途
MEMS、LCD、OLED、WLP、薄膜芯片組件等
特征
- 因為無邊緣，所以適合超高精細度的制圖。
- 采用合成石英材料，曝光過程中溫度發生變化，尺寸也能穩定不變。
- 遮光膜很薄，因此復制性能優良。
- 最小可支持2μm圖案寬度。
支持數據
Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※另備有高保密度的收發方法，請聯系我們。
選項
與薄膜防水和防油涂層以及硬涂層兼容。
標準、規格
基體材料對比表
基體材料/制造規格
畫質對比（30μｍ）
各基體材料的伸縮率
資料來源：竹田東京官網
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