TANIOBIS 德國CVD·ALD前驅體材料開發(fā)生產(chǎn)設備開始投入運營

2024年11月13日，JX金屬株式會社的關聯(lián)公司TANIOBIS GmbH在其位于德國哥斯拉的基地引入了可進行下一代半導體用CVD（化學氣相沉積）?ALD原子層沉積）前驅體材料開發(fā)與生產(chǎn)的設備，并已正式投入運營。

隨著先進半導體需求的增加，特別是對用于生成極薄膜和微細線路的高純度CVD和ALD前驅體材料的需求不斷上升。因此，TANIOBIS公司正在擴展其高純度金屬化合物的產(chǎn)品組合，以確保滿足市場需求的穩(wěn)定供應。該公司還計劃通過提高現(xiàn)有設備的生產(chǎn)能力來增強供應能力和業(yè)務的持續(xù)性。

JX金屬集團將半導體用CVD和ALD前驅體材料作為未來收益的重要支柱，并在多個地點進行生產(chǎn)和開發(fā)設備的投資，以擴展產(chǎn)品線。今年6月，JX金屬集團決定在東邦鈦業(yè)株式會社茅崎工廠的場地以及公司日立事業(yè)所白銀地區(qū)進行生產(chǎn)設備和開發(fā)設備的投資，此次設備增設將進一步擴展產(chǎn)品線。此外，我們還將利用本公司在濺射靶材業(yè)務等領域積累的半導體領域廣泛的知識和網(wǎng)絡，推動集團整體CVD?ALD前驅體材料業(yè)務的擴展。