GORE臭氧化模組助力半導體產業工藝優化和革新

隨著5G和智能汽車等高新技術的快速發展，半導體產業已成為我國重點發展的產業之一。在不斷發展迭代的進程中，半導體、微電子制程不僅面臨著工藝和技術革新的挑戰，也面臨節能環保的高要求。

傳統的半導體制程工藝中大量使用化學混合物進行硅片清洗和半導體清洗，這顯然已不符合當下半導體行業的發展趨勢。

對半導體、微電子制造商而言

其核心需求為

減少使用非環保且廢物處理成本高的傳統化學品

在室溫下能夠進行清洗工藝，安全節能地去除有機物和進行硅晶圓表面處理

使用更潔凈的清洗技術提升產量和良率

使用化學品進行半導體清洗不僅會造成環境污染，殘留的化學有機污物也會對產品質量產生影響。而潔凈的臭氧水不僅可以減少廢物處理降低成本，還能確保去除硅晶圓和平板顯示器上的有機污物，幫助提高半導體產品的產量和良率。而在臭氧水處理工藝的探索與創新上，戈爾更是深耕已久。

自20世紀80年代以來，GORE臭氧化模組已成功應用于臭氧水晶圓清洗工具，實現硅晶圓和半導體的可靠清洗。該臭氧化模組使用去離子臭氧水，比常用的刺激性化學品更安全、更有效，而且節能環保。

迄今為止，GORE臭氧化模組已擁有超過40年的應用驗證，性能穩定可靠。其生成的更潔凈、無氣泡且濃度更高的臭氧水，在清洗硅晶圓、半導體和平板顯示器等工藝方面有著出色的性能表現，使生產過程更加節能環保，并提高生產安全、改善工藝性能、降低運營成本。

將GORE臭氧化模組與機械混合技術進行比較，可以更好地了解我們產品的優勢。

正是憑借這樣的卓越特性，GORE臭氧化模組已廣泛應用于微電子產業先進半導體制造工藝中的臭氧水制備和臭氧清洗工藝，如：硅晶圓清洗和生產、邏輯芯片和存儲芯片制造、LED/OLED/QOLED (LTPS)平板顯示器清洗和制造、光掩膜等，實現極佳的環保與成本效益。

戈爾持續致力于保護環境，在踐行“Together, improving life”（你我攜手，更美生活）的承諾下，幫助合作伙伴產生良好的經濟效益，為社會的可持續發展作出積極貢獻。面對半導體行業廣闊的發展前景，GORE臭氧化模組憑借更高潔凈度、出色的可靠性和穩定性，助力行業打造節能環保可持續發展的“芯”未來。